Siamo felici di annunciarvi che il nostro partner SENTECH ha recentemente condotto con successo una ricerca di processo, che dimostra la possibilità di misurare strati dielettrici su wafer di SiC, e ha creato una scheda dell’applicazione. Leggendola, è possibile scoprire come le tecniche di ellissometria non invasiva di SENTECH abbiano potuto misurare accuratamente SiNₓ su un wafer di SiC da 100 mm con uno spessore di 0,35 mm. Per richiedere la scheda completa o per approfondire l’offerta di strumenti di metrologia per film sottili di SENTECH, potete contattarci direttamente alla sezione “Contatti” di questo sito.
